矽能入孵企业氮矽科技获2021中国IC设

刘军连治疗白癜风 https://jbk.39.net/yiyuanfengcai/tsyl_bjzkbdfyy/vgfhj3a/
年3月18日,由全球电子技术领域的领先媒体集团ASPENCORE举办的“中国IC领袖峰会暨中国IC设计成就奖颁奖典礼”在上海隆重举行,旨在表彰在中国IC设计链中占据领先地位、或展现卓越设计能力与技术服务水平、或具极大发展潜力的最佳公司、团体、以及杰出个人。氮矽科技自主设计研发的DXD(V氮化镓功率器件4x4mm)荣幸获得了中国IC设计成就奖之年度最佳新材料器件奖。年是ASPENCORE第19年连续举办IC设计调查及奖项评选,受到了广大IC设计工程师和企业高管的


转载请注明:http://www.180woai.com/afhgx/9147.html


冀ICP备2021022604号-10

当前时间: