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首先我们来看下光掩模基版的定义
光掩模基版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（SP）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。
光掩模基版有以下几种叫法：匀胶铬版，光掩模基版、空白光罩、拽英文的话就叫做Maskblanks）
基板-基版匀胶铬版-产品图关于光掩模基版这几个字行业内大佬们也是字字斟酌、修改过几个版本，最终订下了光掩模基版，如截图所示，文本提示错别字纠正，那我就要掰扯一下了，掩模版的版字没有错，在光刻或者蚀刻图形时，机台都有固定的加工尺寸，所需图形在不同规格中进行排版，最终做出来的图形称做版，一版中可以涵盖不同的图形，图形整版使用或者裁切都可以（小编拙见，有异议请撕我）。
对于光掩模基版最准确的称呼我认为是匀胶铬版，生产过程：首先在玻璃基片经过磁控溅射、蒸镀、电镀方式镀铬（具体工艺流程请参考百度定义），膜面旋涂感光胶，装在暗盒（匀胶小版版害怕自然光哟）中存放，需放置在恒温恒湿的车间，它也会坏掉，写图时在黄光室打开，剩下的工艺此篇略过。